硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法
Test method for oxygen precipition characteristics of silicon wafers—Interstitial oxygen reduction
基础信息
标准号:GB/T 19444-2025发布日期:2025-06-30实施日期:2026-01-01全部代替标准:GB/T 19444-2004标准类别:方法中国标准分类号:H 21国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委
起草单位
麦斯克电子材料股份有限公司隆基绿能科技股份有限公司浙江海纳半导体股份有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司上海合晶硅材料股份有限公司浙江中晶科技股份有限公司内蒙古中环晶体材料有限公司山东有研艾斯半导体材料有限公司杭州中欣晶圆半导体股份有限公司浙大宁波理工学院
起草人
方丽霞陈卫群寇文辉王新社肖世豪朱晓彤尚海波章金兵姚献朋黄笑容郭红强刘丽娟张海英王江华
相近标准(计划)
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