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光伏组件性能测试中薄膜与晶体硅组件的效率差异

三方检测单位 2022-01-15

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光伏组件性能测试是验证其发电效率与可靠性的核心环节,而薄膜(如碲化镉、铜铟镓硒)与晶体硅(单晶、多晶)组件因材料结构、载流子特性的根本差异,在效率测试中呈现出光谱响应、温度耐受性、弱光表现等多维度的区别。本文基于IEC 61215、IEC 61853等国际标准测试流程,结合实际测试数据,系统解析两类组件在效率测试中的差异及底层逻辑,为组件选型与测试方案设计提供参考。

材料结构差异与测试基础逻辑

晶体硅组件以硅晶片为核心,通过掺杂形成PN结,依赖少子扩散实现光电转换,其效率核心指标为少子寿命、载流子迁移率;而薄膜组件通过气相沉积或溅射在玻璃/柔性衬底上形成几微米厚的半导体层(如碲化镉CdTe、铜铟镓硒CIGS),依赖多子导电,载流子浓度更高但迁移率更低。

在基础测试中,晶体硅需重点测少子寿命(如微波光电导衰减法),而薄膜需测薄膜层的厚度均匀性、载流子浓度(如霍尔效应测试)。例如,单晶硅的少子寿命可达数百微秒,而CdTe薄膜的载流子浓度约10¹⁵cm⁻³,这种结构差异直接决定了后续效率测试的侧重点——晶体硅更关注载流子的长距离传输能力,薄膜更关注薄膜层的均匀性与界面特性。

比如,晶体硅组件的效率受硅片隐裂影响极大,测试中需用EL(电致发光)检测隐裂;而薄膜组件的效率受薄膜层厚度不均影响更明显,测试中需用光谱反射率法测薄膜厚度均匀性。

光谱响应特性对效率测试的影响

晶体硅的光谱响应峰集中在可见光中段(约700nm),对红光区(600-900nm)响应强,但对蓝光区(400-500nm)与近红外区(>1000nm)响应弱;而薄膜组件的光谱响应范围更贴合短波长:CdTe的响应峰约550nm,CIGS则覆盖400-1100nm,对蓝光与绿光更敏感。

在标准测试条件(STC:25℃、1000W/m²、AM1.5G光谱)下,晶体硅组件的效率通常高于薄膜(如单晶组件效率22%-23%,CdTe组件18%-20%),但当测试光谱偏离AM1.5G时,差异会被放大。例如,若测试光源的蓝光成分增加(如LED模拟器的短波长偏多),CdTe组件的效率可提升1%-2%,而晶体硅效率下降0.5%-1%;反之,若红光成分增加(如氙灯模拟器的长波长偏多),晶体硅效率会优于薄膜。

这种差异源于两者的本征吸收系数:晶体硅的吸收系数在蓝光区约10⁴cm⁻¹,而CdTe在蓝光区可达10⁵cm⁻¹,意味着更薄的薄膜层即可吸收相同的短波长光子。测试中,光谱匹配度(如IEC60904-9中的光谱失配因子)对薄膜组件的效率结果影响更大——若模拟器光谱与AM1.5G偏差10%,薄膜效率误差可达2%,而晶体硅仅1%。

温度系数差异的测试表现

温度系数是衡量组件效率随温度变化的关键指标,晶体硅组件的温度系数通常为-0.35%/℃至-0.5%/℃(效率每升高1℃下降0.35%-0.5%),而薄膜组件(如CdTe)的温度系数约为-0.25%/℃,更耐高温。

IEC61853中的温度系数测试能真实反映差异:某单晶组件在25℃下效率22.5%,当温度升至40℃时,效率降至21.6%(下降4%);而同功率等级的CdTe组件在25℃下效率19%,40℃时效率18.4%(下降3.2%)。

底层原因是晶体硅的带隙(1.12eV)随温度升高收缩更明显,导致载流子复合率增加,而CdTe的带隙(1.45eV)更宽,温度对复合的影响更小。测试中,若未严格控制温度(如测试环境温度30℃),晶体硅的效率结果会被低估1%-1.5%,而薄膜仅0.5%-1%。

弱光条件下的效率测试差异

弱光环境(辐照度<200W/m²)是组件实际运行中的常见场景,两类组件的弱光响应差异显著。晶体硅组件的效率随辐照度下降而快速降低,主要因弱光下少子寿命缩短,填充因子(FF)下降明显;而薄膜组件的载流子浓度高(如CdTe的载流子浓度约10¹⁵cm⁻³,是晶体硅的10倍),弱光下漂移电流占比更高,FF下降更缓。

根据IEC61853的低辐照度测试数据,在100W/m²光强下,单晶组件的效率仅为STC下的85%-90%,而CdTe组件可达90%-95%。例如,某单晶组件在1000W/m²下效率22%,100W/m²下效率19.2%(下降12.7%);某CIGS组件在1000W/m²下效率18.5%,100W/m²下效率17.2%(下降7%)。

测试中,弱光效率的评估需采用LED模拟器(可精准控制低辐照度),而传统氙灯模拟器在低光强下稳定性差,易掩盖薄膜的优势——氙灯在100W/m²下的光强波动可达5%,导致薄膜效率测试误差增加2%。

封装工艺对效率稳定性测试的影响

封装工艺不仅影响组件的可靠性,也会改变效率测试的长期稳定性。晶体硅组件采用“钢化玻璃+EVA+背板”的三明治结构,封装过程中的热压工艺可能导致硅片隐裂(尤其是薄硅片<150μm),隐裂会增加载流子复合,导致效率下降;而薄膜组件(如CdTe、CIGS)多采用“玻璃-玻璃”封装,无背板设计减少了水氧渗透路径,但薄膜层对湿气更敏感——若EVA或密封胶存在缺陷,水氧会渗透至薄膜界面,导致缓冲层(如CdS)氧化,效率快速衰减。

在加速老化测试(如IEC61215中的双85测试:85℃、85%湿度,1000小时)中,晶体硅组件的效率衰减通常<2%,而薄膜组件的衰减可达2%-3%(若封装不良则更高)。例如,某多晶组件经双85测试后效率从19%降至18.6%(衰减2.1%),而某CIGS组件从18%降至17.5%(衰减2.8%)。

测试中,需通过EL检测晶体硅的隐裂——隐裂会导致EL图像中出现暗纹,效率下降1%-3%;而薄膜组件需通过湿热循环后的IV测试监控效率衰减——若衰减超过3%,则说明封装存在水氧渗透问题。

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